항목 | 세부내용 |
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X-선 발생기 | Mo/Rh/W/Ag Target(Option), 50kVp, 1mA |
검출기 | FSDD(Fast Silicon Draft Detector) |
분해능 | Si type Detector(FSDD) 122eV FWHM at Mn Kα |
X-선 조사범위 | Poly capillary optics(Focal Spot 15um/30um) FWHM |
측정 범위 | Ti(22)~U(92) |
시료 형태 | Solid / Liquid / Powder, Multi-Layer |
시료챔버 크기 | 660mmX450mmX150mm / 500mmX450mmX150mm |
스테이지 이동가능거리 | 300mmX200mmX150mm / 220mmX200mmX150mm |
시료 테이블 크기 | 310mm X 260mm |
주요특징 |
Auto / Manual Stage Mode 일반도금, Rh, Pd, Au, Ag, Sn, Ni 두께측정 다층 박막 두께 측정 (최대 5층) |
카메라 배율 | 40배(80배) Digital zoom 4단 |
방사능 안전차단 장치 | 자동 3중 차단 장치 |
유해물질 성적서 레포트 종류 |
Excel, PDF파일 저장 / 출력 사용자 지정 양식 |
주요 장점 |
다층박막 두께 측정 (최대 5 Layer) 편리한 스테이지 컨트롤 멀티포인트 측정 가능 원격지원 |
Application |
ENEPIG, Pd-Ni Rh 등 특수도금 두께 측정 자동차 부품, 전자회로보드 (PCB), 콘넥터 등 도금 분석 단층, 복층, 합금 도금 분석 도금두께 측정시 정확한 함량 분석 |