두께 측정기

      CMI-760 CMI-760 도금두께측정기는 와전류방식 프로브와 마그네틱인덕션 프로브를 탑재하여 사용자의 다양한 요구에 따라 범용적으로 사용이 가능합니다. 와전류방식 프로브 및 자기유도프로브 모두 작고, 심플한 외관으로 디자인하였으며, 높은 수준의 정밀성으로 기계적-전기적으로 설계-제조되어 뛰어난 측정 정밀성을 자랑합니다. 코팅성분, 두께측정범위, 제품사이즈, 형상 등 사용자의 사용조건에 적합한 프로브를 선택하여 측정할 수 있습니다.   특징 측정 분해능 : 0.001um 대형 백라이트 LCD 디스플레이 5000개 이상의 측정값을 저...

  FPCB Thickness Gauge   A B C D 분해능 0.001 정도 0.003mm 0.005mm 범위 12.7mm 25.4mm 50.8mm 측정압 1.5N이하 0.4~0.7N 1.8N이하 2.3N이하 스템직경 8mm(ISO/JIS타입) 배터리 SR44, 938882 배터리 수명 연속 사용 시 약 7000시간 방진/방수 ...

항목 세부내용 X-선 발생기 Mo/Rh/W/Ag Target(Option), 50kVp, 1mA 검출기 Si-Pin Diode (Option : SDD, FSDD) 분해능 Si-Pin Diode : 149eV FWHM at Mn Kα / Option : SDD(125eV), FSDD(122eV) X-선 조사범위 0.3 Collimator (Option : 0.05, 0.1, 0.2, 0.3, 1mm) Manual / Auto Changing Stage 측정 범위 Ti(22)~U(92) ...

항목 세부내용 X-선 발생기 Mo/Rh/W/Ag Target(Option), 50kVp, 1mA 검출기 FSDD(Fast Silicon Draft Detector) 분해능 Si type Detector(FSDD) 122eV FWHM at Mn Kα X-선 조사범위 Poly capillary optics(Focal Spot 15um/30um) FWHM 측정 범위 Ti(22)~U(92) 시료 형태 Solid / Liquid / Powder, Multi-Layer 시...

항목 세부내용 X-선 발생기 Mo/Rh/W/Ag Target(Option), 50kVp, 1mA 검출기 Si-Pin Diode (Option : SDD, FSDD) 분해능 Si-Pin Diode : 149eV FWHM at Mn Kα / Option : SDD(125eV), FSDD(122eV) X-선 조사범위 0.3 Collimator (Option : 0.05, 0.1, 0.2, 0.5, 1mm) Capillary Optics 50um Manual / Auto Changing Stage ...

항목 세부내용 X-선 발생기 Rh Target/Ti Target(Sulfur Analysis) 검출기 Si-Pin/SDD(He Purge Option) 분해능 SDD : 125eV FWHM at Mn Kα Sensor areas : 30㎟ X-선 조사범위 1,3,5,8 mm Auto Change 측정범위 Na(11) – U(92) – He Purge Option 시료형태 Solid / Liquid / Powder 시료챔버 크기 ...

  ITG-B10 전기저항방식법(Electrical Resistance Methode)을 기반으로 PCB 또는 얇은 필름위의 동(copper)의 두께를 측정하는 장비이다. 4pin Probe를 측정하고자 하는 동(copper) 표면에 접촉하여 측정하는 방식이며 사용자에게 익숙한 Window 운영체재를 바탕으로 작동하며 터치 스크린 적용으로 보다 직관적이고 편리한 조작이 가능하다. 항목 세부내용 측정방식 4pin probe 전기저항식 측정가능 샘플 Copper layer on PCB 측정범위 Range 1 : 0.1~10um ...